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证券日报网讯 2月14日晚间，理工光科发布公告称，本次回购刊出的2021年松手性股票激发筹划部分已授予但尚未撤销限售的松手性股票系数26，000股，占2021年松手性股票激发筹划授予总和1，650，000股的1.2121%，占回购刊出前公司总股本93，061，959股的0.0279%。本次回购刊出松手性股票的激发对象东谈主数为1东谈主，回购价钱为12.5154元/股，回购总金额为325，400元。公司已在中国证券登记结算有限牵扯公司深圳分公司办理完老本次松手性股票回购刊着手续。刊出完成后，公司

（原标题：EUV光刻，迎来挑战者） 如若您但愿不错时常碰面，接待标星保藏哦~ 起首：本色编译自IEEE，谢谢。 2024年9 月，佳能推出了首款商用版技艺，该技艺有朝一日可能会颠覆伊始进的硅芯片制造工艺。这项技艺被称为纳米压印光刻 (NIL) ，能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化，从而使逻辑芯片能够与目下量产的英特尔、AMD和Nvidia处理器相比好意思。 NIL 系统的上风可能会挑战目下主导先进芯片制造的 1.5 亿好意思元机器——极紫外 (EUV) 光刻扫描仪。如若佳能的斟酌正确，

据中国光谷公众号，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶规模终了紧要碎裂。 武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶居品，已通过半导体工艺量产考据，终了配方全自主筹画，有望始创国内半导体光刻制造新处所。 该居品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的海外同系列居品UV1610，T150 A在光刻工艺中发扬出的极限别离率达到120nm，且工艺优容度更大，踏实性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后谈刻蚀工艺发扬更为友好，通过考据发现T150 A中